企业信息

区分	韩一HVC-1600DA
MODEL	HVC-1600DA
NO	2019年，2015年，，2014年
EB（电子枪）	1GUN，，韩一 12穴
离子源	韩一，（霍尔）
机械泵	爱德华EM275
罗茨泵	爱德华EM2600
深冷	韩国V-PLUS1000H
晶控	XTC + 2个晶控
阻蒸	1个
制造日	2019年，2015年，，2014年

镀膜机设备清单

镀膜机清单
品牌	规格（MM）
日本光弛	1300.1550.2350
日本新科隆	1350
韩国韩一镀膜机	900.1200.1600.2050
韩国联合镀膜机	1650.205
莱宝镀膜机	APS1100
闽台龙翩	1400.1650.1800
成都南光	1100 1300

韩一HVC-1600DA光学蒸发真空镀膜机-电镀机-光学机

生活中广泛使用光学蒸发真空涂层机。蒸发真空涂层机的原理是利用薄膜加热装置的热能，使薄膜原子在真空条件下通过热运动逃离薄膜表面，沉积在基板表面。光学蒸发真空镀膜机-清洗方法真空工艺前，应清洁真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；由于污染物引起的气体和蒸汽源不仅会使真空系统无法获得所需的真空度，还需要清洁灯涂层机零件的表面。而且由于污染物的存在，也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。污染物可定义为任何无用的物质或能量。根据污染物的物理状态，多弧离子涂层机可分为固体、气体和液体，以膜或散粒的形式存在。就其化学特性而言，它可以处于离子态或共价态，可以是无机物或**物。暴露在空气中的表面容易受到污染，污染源多种多样，初始污染通常是表面本身形成过程的一部分。各种成分的表面污染物增加了吸附、化学反应、浸渍和干燥过程，以及污染物的机械处理。常见的真空材料表面污染物有以下类型。 ①油脂：润滑剂、切削液、真空油脂等。污染加工、组装和操作； ②水基：手汗、吹水蒸气、唾液等。 ③表面氧化物：材料长期放置在空气中或放置在潮湿空气中形成的表面氧化物； ④酸、碱、盐：清洗过程中的残留物、手汗、水中的矿物质等； ⑤环境空气中的灰尘和其他**物被抛光。清洗后的表面按要求分为原子级清洗表面和工艺清洗表面。早期到位的清洗可以减少很多麻烦，避免溅控溅射涂层机出现很多小问题，对工作效率和真空涂层机的涂层质量非常积极。在各种工作条件下，可以大大提高真空系统中所有器壁等部件表面的工作稳定性。这些工作条件包括：高温、低温、电子、离子、光子或重粒子的发射和轰击。

真空镀膜机设备

光学蒸发真空镀膜机-加热特性用于加热靶材的光学蒸发真空涂层机有蒸发源。可通过电阻加热、感应加热、电子束加热、雷电加热和电弧加热进行。其中，由于其工作原理简单，目标材料通过电流加热，操作方便，相应的设备结构不复杂，价格低廉。通过高频电流感应加热.使目标材料本身产生电流，从而加热和蒸发。该方法效率高，速度快。由于它产生热量，较大的目标材料也能快速加热。电子束是一种产生较高温度，达到3000摄氏度的方法。通过光学聚集在蒸发源上加热雷射采用激光束。与电子束不同，激光束与细颗粒分离，电子束与分子分离，雷射加热和蒸发膜质量好。电弧采用弧光放电加热。即使基板不加热，也可以镀上好的膜层，熔点高的金属或化合物也可以蒸发，不会像电阻加热那样污染。上述五种真空蒸发涂层机的加热方法各有优点，可根据客户的不同需求进行配置。光学蒸发真空镀膜机-优点特点蒸发操作在真空下进行。具有以下优点： ①高温下可处理牛奶、果汁、蜂蜜、抗生素等热敏物质。 ②增加传热驱动力，增加蒸发器单位传热面积的蒸发量。 ③低温热源可用于降低能耗。多效蒸发装置多效蒸发装置的后效。但溶液冷却会增加粘度，降低传热系数。

韩一HVC-1600DA光学蒸发真空镀膜机-电镀机-光学机设备图片

二手设备清单