二手国外新科隆光学镀膜机 真空镀膜机 光学电镀机

设备介绍

1300MM新科隆真空镀膜机

1米3的新科隆镀膜机，双枪，射频离子源光控精控双枪，射频离子源光控精控

，设备保养的相当的，还在生产线上使用中的设备，日本原装的，可以含安装免费用教工艺！

设备特点

　　采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。

　　设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。

　　采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到******烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。

　　工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳可靠。

　　采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。

采用先进的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定可靠，可实现系统的手动、半自动和全自动操作

主要分类

主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

一、对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

厚度均匀性主要取决于：

1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3. 蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1。晶格匹配度

2。 基片温度

3。蒸发速率

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

镀膜机清单