二手OTFC-1300MM日本光驰带涉频源真空镀膜机

设备介绍

OTFC-1300MM日本光驰带涉频源真空镀膜机

此设备有射频源,单枪,扩散泵深冷和煮蒸，设备保养的相当的，还在生产线上使用中的设备，日本原装的，可以含安装免费用教工艺！

 OTFC-1300MM日本光驰带涉频源真空镀膜机的主要分类

主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

一、对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

厚度均匀性主要取决于：

1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3. 蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

一般来说，光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜，就是以干式涂布方式制造的产品。但是在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。

设备图片

镀膜机清单